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說明：半導體、FPD制造流程越發(fā)要求精細化、高性能化，半導體硅電路板的清洗在各種加工工序中變得非常重要。氫氟酸具有蝕刻、除去硅氧化膜的特質(zhì)，因此在半導體硅電路板的清洗流程中也是不可或缺的精細加工技術(shù)。由于現(xiàn)在的多段清洗工序中需要用到稀氫氟酸進行最終清洗，半導體的濕蝕刻工序?qū)浞嵋惨蠛芨叩臐崈舳?。清洗對氫氟酸潔凈度要求極高的設備構(gòu)件也需要用到超高純度的氫氟酸。

另外，半導體、FPD制造工序，超高純度藥劑不僅能去除氧化膜，而且能在抑制粒子附著、晶片表面的粗糙度等，達到各種對清洗性、功能性的要求。為此，我公司一直致力于對各種超高純度電子化學品進行研發(fā)及銷售。

包裝：加侖瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤壓力容器，

1000公斤IBC桶，20噸TANK罐。

聯(lián)系人：朱義坤：130-6948-8833

薛 棟：188-3907-6907

辛凱明：199-3918-1150

說明：我司所生產(chǎn)的電子級硝酸主含量70±0.5%，氯化物≤20ppb，磷酸鹽≤50ppb，硫酸鹽≤50ppb，鋁、鈉、鉀離子≤0.05ppb，其他金屬雜質(zhì)離子≤0.03ppb，顆粒（≥0.1μm）≤25個/ml。

包裝: 200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶，20噸TANK罐

聯(lián)系人：朱義坤：130-6948-8833

說明：我司所生產(chǎn)的電子級氨水主含量（28.5-29.5）%，單個雜質(zhì)金屬離子含量≤10ppt，硫酸根≤20ppb，磷酸根≤10ppb，顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml。

包裝: 200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶，20噸TANK罐

聯(lián)系人：朱義坤：130-6948-8833

說明：電子級氟化銨是一種用于半導體制造工藝中的重要原材料。它可被用作高純度氟離子源和可控的淀積源，幫助調(diào)節(jié)氟離子濃度和控制膜厚度，因此可用于生產(chǎn)半導體器件中的絕緣層材料、金屬反應物、填充材料和電極所需材料等。電子級氟化銨在半導體和相關(guān)產(chǎn)業(yè)中具有廣泛的應用，是現(xiàn)代科技生產(chǎn)中不可或缺的原材料之一。在使用時需要注意采用純度較高的電子級產(chǎn)品，避免影響半導體器件的性能和可靠性。

包裝: 200公斤壓力容器,20噸TANK罐

聯(lián)系人：朱義坤：130-6948-8833